-
- دوشنبه تا شنبه: 10:00 - 16:00 / یکشنبه تعطیل است
تولید پودر سیلیکون کاربید. بین شن و ماسه سیلیس و پودر کوارتز کاربید سیلیکون پودر آلومینیوم ساخت تولید کنندگان ماشین در هند. ماشین آلات برای ساخت شن و ماسه کوارتز . قیمت را بپرسید
به خواندن ادامه دهید
کاربید نوبیدیوم (NbC و Nb 2 C) یک ماده سرامیکی نسوز بسیار سخت است. این ماده از سخت ترین ترکیبات فنی شناخته شده است. بنابراین باید به طور عالی برای کاربردهای ماشینکاری و محافظت در برابر سایش مناسب باشد.
به خواندن ادامه دهید
بازرگانی هیدروشیمی(مواد شیمیایی ونانو مواد) اکسید آلومینیوم سیلیکون کارباید ( سنباده- سمباده )دولومیت نانو خرید اکسید کبالت فروش هیدرازین نیتریت سدیم سفید و قهوه ای پودر کاربید اگزالیک اسید کلروفیک تیتانیوم کارباید ...
به خواندن ادامه دهید
روش تولید این پوشش به صورت cvd یا رسوب دهی بخار شیمیایی است بدین صورت که عملیات پوشش دهی توسط جریان کربن و وجود سیلیکون در حضور گازی بی اثر (مثل هیدروژن خالص و. . .
به خواندن ادامه دهید
روش رسوب دهی فیزیکی بخار (pvd) روش متعارفی برای رسوب مواد مختلف از فاز بخار است که به صورت فیزیکی بر سطح زیرلایه های متنوع می تواند لایه های نازک یا پوشش ها را تولید نماید.
به خواندن ادامه دهید
خواص اپتیکی لایه های نازک کاربید سیلیکون تهیه شده به روش رسوب بخار شیمیایی با سیم داغ نهمین کنفرانس ملی خلأ ایران() 9411339010, ^فاطمه شریعتمدار طهرانی
به خواندن ادامه دهید
روش رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار (Chemical Vapor Deposition, CVD) به‌دلیل ویژگی‌های منحصربه‌فرد خود، به‌عنوان روشی کاربردی در تولید طیف وسیعی از قطعات سرامیکی و نیمه‌رسانا شناخته می‌شود.
به خواندن ادامه دهید
رسوب دهی فیزیکی بخار (pvd) یکی از روش‌های رسوب گذاری خلاء میباشد که می‌تواند برای تولید فیلم‌های نازک و پوشش‌ها استفاده شود.
به خواندن ادامه دهید
لایه‌های نازک سیلیکون سیلیکون کاربید (a - SiC: H)بوسیله رسوب بخار شیمیایی پیشرفته پلاسما به عنوان پوشش‌های محافظ برای کاربردهای محیطی سخت رسوب می‌کند.
به خواندن ادامه دهید
متداول‌ترین الیاف سرامیکی مورد استفاده در کامپوزیت‌های زمینه سرامیکی، کربن، سیلیکون کاربید (Sic)، آلومینا (Al2O3)، مولایت (Al2O3-Si2O). الیاف سرامیکی
به خواندن ادامه دهید
رسوب دهی شیمیایی بخار به صورت آلی– فلزی (Metal-organic CVD) یک فرآیند تخصصی و نسبتا جدید از CVD می باشد. برای اولین بار در دهه ی ۱۹۶۰ از این روش برای رسوب دهی ایندیم فسفید(InP) و ایندیم آنتیمونید(InSb ...
به خواندن ادامه دهید
رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار به طور وسیع در تولید نیمه‌هادی‌ها (به عنوان یک بخش از فرآیند تولید ساختارهای نیمه‌هادی) و برای رسوب فیلم‌های گوناگون نظیر سیلیکون‌های پلی کریستال، آمورف ...
به خواندن ادامه دهید
انباشت بخار شیمیایی (به انگلیسی: Chemical vapor deposition به اختصار CVD) یکی از روش‌های انباشت در خلاء برای تولید مواد با کیفیت، با کارایی بالا و جامد میباشد. از این روش معمولاً در صنایع نیمه رسانا برای تولید لایه‌های نازک ...
به خواندن ادامه دهید
مقالات isi رسوب دهی شیمیایی بخار . 2832 مقاله ... مقالات isi سیلیکون کاربید. 2282 مقاله ...
به خواندن ادامه دهید
کامپوزیت های زمینه سرامیکی (cmc) تولید شده از الیاف کربن و سیلیکون کاربید، یک گروه جدید از مواد ساختاری می باشد. در سال های اخیر، فرایندهای تولید و مواد جدید توسعه
به خواندن ادامه دهید
رسوب دهی شیمیایی بخار (cvd) یکی از کاربردی ترین متد ها در تهیه سطوح ویژه جهت ساخت تجهیزات با فناوری بالاست. در این مقاله سعی بر این است که توجه خود را بر روی رسوب دهی نیمه رساناها، برخی فلزات و در ...
به خواندن ادامه دهید
هر دو فرآیند رسوب بخار شیمیایی [رسوب بخار شیمیایی با فشار کم (lpcvd) و رسوب بخار شیمیایی تقویت شده با پلاسماpecvd که در جدول 7.6 آورده شده است ، با جزئیات در فصل 8 توضیح داده شده است. جدول 7.6.
به خواندن ادامه دهید
رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار (cvd) تولید نانومواد با روش رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار; آشنایی با روش‌های رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار (cvd) رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما (pecvd)
به خواندن ادامه دهید
انباشت بخار فیزیکی پرتو الکترونی یا ebpvd، روشی از انباشت بخار فیزیکی است که در آن آند هدف با یک پرتو الکترونی به وسیله یک رشته تنگستن برانگیخته تحت خلاء بالا بمباران می‌شود. پرتوی الکترون اتم‌های هدف را به فاز گاز تبدیل ...
به خواندن ادامه دهید
معروف‌ترین گرید آن ۱٫۴۴۶۲ یا aisi 318ln با ترکیب شیمیایی ۰٫۰۲٪کربن - ۲۲٪کروم - ۵٫۵٪نیکل - ۳٪مولیبدن، میباشد که اصلی‌ترین کاربرد آن در ساخت تجهیزات کارخانجات کاغذ و شیمیایی و تجهیزات روی آب دریا ...
به خواندن ادامه دهید
مورفولین یک ماده شیمیایی کاملا فرار میباشد،کاربردهای مهم و متعددی دارد.به طور گسترده ای به عنوان یک ماده بازدارنده خوردگی در سیستم های دیگ بخار استفاده می شود.بعنوان واسطه در ساخت مواد شیمیایی لاستیکی و روشن کننده های ...
به خواندن ادامه دهید
آمونیاک بخشی از رسوب نیترید سیلیکون را به وسیله رسوب گیری بخار شیمیایی (cvd) در نیمه هادی و مواد پیشرفته جذب می کند. مدیریت زباله و آب: آمونیاک در عملیات حرارتی استفاده می شود.
به خواندن ادامه دهید
مواد شیمیایی اکسیژن زدا (oxygen scavenger ) مواد شیمیایی ضد رسوب و خوردگی دیگ های بخار در فشار های متنوع ( Corrosion Inhibitor, Hardness stablizer) مواد شیمیایی تنظیم کننده PH در خطوط بخار و کندانس برگشتی
به خواندن ادامه دهید
رسوب دهی شیمیایی بخار (Chemical Vapor Deposition) یا CVD روشی برای تولید مواد نانو ساختار و ایجاد پوشش روی زیرپایه است. در این روش، پیش ماده ها تبخیر شده و وارد راکتور می شوند.
به خواندن ادامه دهید
نفوذ دهی بخار شیمیایی ( cvi) یک فرایند در مهندسی سرامیک است که در طی آن ماده زمینه با استفاده از گازهای واکنش پذیر در دمای بالا به داخل یک پیش فرم فیبری نفوذ داده می شود تا یک کامپوزیت تقویت شده با الیاف تشکیل شود.
به خواندن ادامه دهید
رسوب دهی شیمیایی بخار :مقدمه رسوب¬دهی شیمیایی بخار (CVD: Chemical Vapor Deposition) یک فرایند شیمیایی است که به منظور ایجاد یک لایه با کیفیت و با کارامدی بالا بر روی سطح استفاده می¬شود.
به خواندن ادامه دهید
رسوب دهی شیمیایی بخار (Chemical Vapor Deposition) یا CVD روشی برای تولید مواد نانو ساختار و ایجاد پوشش روی زیرپایه است. در این روش، پیش ماده ها تبخیر شده و وارد راکتور می شوند.
به خواندن ادامه دهید
رسوب دهی شیمیایی بخار (Chemical Vapor Deposition) یا CVD روشی برای تولید مواد نانوساختار و ایجاد پوشش روی زیرپایه است. در این روش، پیش ماده ها تبخیر شده و وارد راکتور می شوند. در این راکتور مولکول های پیش ماده جذب سطحی زیرپایه ...
به خواندن ادامه دهید
تقویت پوشش زرهی پیاده نظام با استفاده از سیلیکون! مجله تصویری سلاح-این روزها اکثر لباس های زره مانند که برای استفاده توسط نیروهای نظامی طراحی می شوند، ساخته شده از ترکیب شیمیایی مستحکم و در عین حال سبک کاربید بور هستند.
به خواندن ادامه دهید
نفوذدهی در بخار شیمیایی (cvi) - در این روش، ابتدا یک هسته (پیش شکل) در مجاورت گاز واکنشی قرار می‌گیرد تا ویسکرها یا نانوسیم‌های سیلیکون کاربید شکل گیرند. در واقع، این مرحله همان روش رسوب دهی در ...
به خواندن ادامه دهید
رسوب دهی شیمیایی بخار (cvd) یکی از کاربردی ترین متد ها در تهیه سطوح ویژه جهت ساخت تجهیزات با فناوری بالاست. در این مقاله سعی بر این است که توجه خود را بر روی رسوب دهی نیمه رساناها، برخی فلزات و در ...
به خواندن ادامه دهید